Tanner是Mentor Graphics公司面向數?;旌系緶?、模擬電路和MEMS設計等研發的集成電路設計工具。其早在1988年就已經面世,至今已有28年歷史。Tanner工具功能強大,從電路設計、版圖設計到仿真驗證一應俱全;且易學易用,目前在國內外有很高的知名度,當前用戶約有4000多個,分布在全球64個國家,如圖1所示。奧
成功案例
圖1 Tanner成功案例
數?;旌仙杓屏鞒?/span>
圖2 Tanner數?;旌仙杓?/span>流程圖
Tanner數?;旌仙杓屏鞒淌欽攵閱D?/span>/數?;旌閑酒ㄖ粕杓頻牧鞒?,如圖2所示。該流程高度集成了IC設計從前端到后端的工具???,詳見表1,具體包括電路設計(S-edit),混合信號仿真(T-spice等),波形編輯(W-edit),版圖設計(L-edit)以及與目前業界Foundry廠兼容的物理驗證(LVS 和DRC)等???/span>
Tanner可與當前流行的設計工具與相應的網表格式相互兼容,降低了因支持不同的Foundry導致的風險,包含多Foundry認證的PDK。該工具直觀性強,使用方便并有自己獨立的運行平臺。同時,Tanner支持Windows和Linux雙重操作環境。思
特點及優勢
完整的模擬/數?;旌?/span>IC全定制設計組件
OpenAccess,LEF/DEF,Liberty和SDF數據格式支持
支持多重抽象級網表仿真:行為級、??榧?、門級
調試和驗證支持System Verilog, Verilog, Verilog-AMS, Verilog-A和VHDL等語言
提供內建的庫導航器,有效跨越自頂向下和自底向上的層次化設計查看單元視圖
自頂向下的混合信號仿真
已驗證的,與綜合兼容的DFT支持
高速時序分析
全角度版圖編輯
實時DRC檢查,DRC和LVS驗證與Calibre工具兼容
使用SDL加速版圖設計,可進行自動布局布線,支持HSPICE, PSPICE, Verilog和CDL等格式數據導入
支持參數化cell,稱為T-cell,可用于可編程接口操作(UPI),創建自動化宏
HiPer DevGen可實現參數化器件生成版圖
支持多Foundry工藝
提供多語言菜單(英語,日語,簡體、繁體中文,德語,意大利語和俄語等)
表1 Tanner 數?;旌狹鞒坦δ苣??/span>
Tanner AMS IC Design Flow |
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電路圖設計 |
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模擬版圖加速 |
? |
波形編輯器 |
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DRC和LVS |
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Spice仿真 |
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2D參數提取 |
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行為級模型 |
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3D參數提取 |
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混合信號分析 |
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Calibre接口 |
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數字RTL仿真 |
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標準單元布局布線 |
? |
版圖編輯器 |
? |
綜合 |
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交互式或實時DRC檢查 |
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靜態時序分析 |
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節點高亮 |
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DFT |
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Pad相關參數提取 |
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自動測試激勵產生 |
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電路驅動版圖(SDL) |
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芯片級繞線 |
? |
MEMS設計流程
在當前MEMS設計領域,工具集成度比以往增加了很多。為了應對市場競爭,用戶需要一個已經成功證明能夠加速商業項目設計周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件與相應模擬/數?;旌系緶飛杓頻募殺淶眉虻?,同時也能夠幫助用戶改善MEMS器件的設計。因此,它能夠減少培訓時間,縮短設計周期。
圖3 Tanner L-edit組件
Tanner MEMS設計流程的核心是L-edit,如圖3所示。L-edit是一款MEMS版圖編輯工具,可以進行曲線多邊形和全角運算操作。相比于工程師使用的其他CAD工具,L-edit的版圖規劃更加清晰。用戶可以快速的畫出所需的圖形,并方便地檢查多層版圖組合之間的重疊和相互關聯。利用L-edit例如強大的曲線編輯、實時DRC檢查、布爾運算、對象捕捉與對準等方面的優勢,用戶可以更有效的完成設計任務,并節約時間與成本。與此同時,在任意形狀與曲率的多邊形復雜運算和派生層生成操作上,L-edit的精度也可以做的非常高。這些操作包含AND,OR,XOR,Subtract,Grow 和Shrink等。它們允許用戶根據簡單的形狀產生復雜的MEMS特殊結構。
特點及優勢
同一環境下完整的IC和MEMS設計解決方案
25年的MEMS設計經驗
從版圖生成3D MEMS模型
支持導入和導出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式
L-Edit提供可視化連接的節點高亮,可以快速查找和定位DRC和LVS問題
高度可編程的MEMS版圖設計工具,如曲線多邊形、多角操作等
參數化派生層產生工具,可實現特殊MEMS結構設計
完整可視化的多圖層幾何圖形設計
利用工具欄便捷地生成、擺放和對準圖形,執行任意角度旋轉、翻轉、合并、咬和切片操作,指定一個參考點進行編輯操作,如對象旋轉、翻轉、移動,或使用基點位置進行實例放置等
針對MEMS工藝的DRC檢查
支持附帶邊界重構的DXF數據格式導入導出
支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 進行硅光器件設計
SoftMEMS工具選項
—高級3D分析工具:機械,熱,聲,電,靜電,磁性和流體分析
—系統級仿真,包含IC和MEMS協同仿真
—根據3D分析結果,自動生成MEMS器件行為模型
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